黄金井の里(こがねのさと)小金井産業振興ホームページ

  • 小
  • 中
  • 大
HOME  >  つどう  >  農工大・多摩小金井ベンチャーポート11月月例セミナー

『つどう』商店街・地域を盛り上げます

イベント詳細

イベント一覧へ戻る

農工大・多摩小金井ベンチャーポート11月月例セミナー

 「最先端半導体製造プロセスにおける気相成長の役割―薄膜作製方法の最新技術動向―」

    • 講習会・セミナー
    • 東小金井駅
     
開催期間2012年11月20日(火)
開催場所農工大・多摩小金井ベンチャーポート 1階会議室
場所〒184-0012 小金井市中町2-24-16 農工大・多摩小金井ベンチャーポート
時間16時開始
料金受講料:無 料 

ホームページhttp://www.smrj.go.jp/incubation/tama-koganei/seminar/071360.html
主催者農工大・多摩小金井ベンチャーポート  後援:小金井市商工会 工業部会       農工大TLO   
問合せ先担当者 : 大野・古橋・弘田
TEL : 042-382-3855 / FAX : 042-382-1566
E-mail : info-tatvp@kanto-bi.smrj.go.jp
内容今日の半導体・太陽電池・LED製品は、薄膜の集合体と言っても過言ではありません。
 これらの製造メーカーでは、ミクロンからナノオーダーまで、薄膜作製技術を駆使して最先端デバイスを開発・製造しています。
 薄膜作製方法には、古くはメッキ法から最先端の気相成長法まで多岐に渡ります。
 
■今回は、気相成長技術とはどのようなものか? 
 我々の日常でどのような製品に使われているのか? そして、最先端半導体プロセスの薄膜技術動向について語っていただきます。
 
テーマ:「最先端半導体製造プロセスにおける気相成長の役割―薄膜作製方法の最新技術動向―」

■ 発表者:気相成長株式会社 代表取締役 町田 英明

ご関心のある方は、是非ご参加お願いします。
 
 
(注意)
 気相成長法とは、薄膜作製技術の一つです。入居企業である「気相成長株式会社」は、技術名をそのまま社名にしております。気相成長株式会社は半導体プロセスに深く踏み込み、長年の経験とハイレベルな気相成長技術を基に次世代・次々世代の半導体デバイスの開発を支えています。
 

■対象:興味のある方ならどなたでもご参加頂けます。

■申込方法:上記のメールアドレス、添付チラシの申込書をファックスあるいは直接IM室までご連絡下さい。
 
■定員:30名程度(定員になり次第、締切らせていただきます)
 
■■■名刺交換会・交流会■■■ 
セミナー終了後に名刺交換会・交流会(会費1,000円)を行います。 お気軽にご参加ください。
 

 



地図
大きな地図で見る

電車:JR中央線「東小金井」徒歩約10分

このイベントについて感想をどうぞ!

このイベントについて感想をどうぞ!

コメントを書く
タイトル 
ニックネーム 
性別
年代
評価ポイント
コメント 
パスワード 
ページトップへ